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本帖最后由 枫叶的思念 于 2014-7-11 19:49 编辑

1、比如RADFRAC目录下的设计规定与RADFRAC目录以外的那个设计规定有什么区别？是RADFRAC目录下那个设计规定只是针对于RADFRAC，而RADFRAC目录目录以外的是全局的？？？
2、在计算最小回流比的时候，当回流比随理论板数增加基本不变时即为最小回流比，做回流比与理论板数灵敏度分析，却得到回流比不变的结果，求解，进料板有计算机确定，附件如下（（（问题2基本解决））
3、在选择目标函数的时候，出现RR, MASS-RR, MOLE-RR， 看说明说RR是指计算回流比，这是什么意思？和质量回流比，摩尔回流比有什么区别？
各位求解答，问题2附件如下

嗯，已经发现了，，其它两个问题还没解决啊

其他的两个问题我觉得自己体会下就能想通了，挺简单的，好好想想

楼主最后问题解决了吗，能详细讲解一下思路吗，做塔内设计规定规定回流比和塔顶纯度，会报错误

RADFRAC目录下的设计规定与RADFRAC目录以外的那个设计规定有什么区别？
两者可以做到一样的效果，但是在大流程里，建议用RADFRAC目录下的设计规定！

3、在选择目标函数的时候，出现RR, MASS-RR, MOLE-RR。
RR和 radfrac 中specification 中规定mole还是mass 保持一致的。
MASS-RR质量回流比
MOLE-RR摩尔回流比

做回流比与理论板数灵敏度分析，却得到回流比不变的结果。

设计规定和calculator规定有问题，可以参考孙兰义书中有个案例的介绍。