Hysys数据库不全？Aspen计算难收敛？如何两全
以前上学时，最早接触Aspen Plus，用着感觉还挺好的，也搭过几个不太复杂的 带循环流程模拟（配合工艺包数据）。期间的 回路收敛 折腾挺久的（目前还处于比较犯怵的阶段）。工作后，同事用Hysys做流程模拟，发现Hysys在计算自由度、快速收敛上做得挺好的，也逐步开始尝试Hysys进行模拟。
现在，在和同事一起开发一个工艺技术的全流程模拟。遇到一个很尴尬的问题：1）Hysys数据库不全，没有内置很多关键物质，使用Aspen Property导入那些关键物质，出现参数传递不全的情况（焓值什么的计算不出来），模拟起来可能会不准+无法模拟反应器；2）使用Aspen Plus，物质数据是全的（需要调用NIST物性数据库），但模拟起来比较难收敛——尤其是循环回路和塔器那块。
针对上述问题，想请问一下 各位坛友，如何解决工艺流程模拟过程中两难全的问题呢？在此先谢谢大家的宝贵经验和分享~
HYSYS+Aspen Properties 本帖最后由 sjlnb 于 2016-10-14 09:11 编辑
tdl522 发表于 2016-10-13 16:52
HYSYS+Aspen Properties
谢谢522大大。
尝试过“HYSYS+Aspen Properties”。不过某个物质比较特殊，使用了Aspen Properties（添加了NIST物性资料库才能搜到），但一些物性没有传递到HYSYS里面，导致反应器无法计算焓值。
这种情况，该怎么处理呢？
此外有个物质，在AP反应器计算中，会提示缺少DHFORM or DHAQFM，我直接在 Property Review里 添加 DHFORM or DHAQF值，这样合适吗？还是需要在 parameter→pure components 里面单加完整信息？这方面的资料比较匮乏~
再次谢谢522大大~
合适 我觉得HYSYS的界面和收敛确实优于Plus。
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