请回答一些问题

041102127

aspen模拟用的是三个填料塔 ，二氯二氢硅、三氯氢硅、四氯化硅微量的硼、磷杂质（主要是以低沸点化合物的形式存在）。第一个塔塔顶DCS、TCS，塔底STC ，第二个塔塔顶DCS塔底TCS　，第三个塔塔顶TCS，塔底B、P杂质．．．选方程是NRTL方程还是  PR方程呢？？？？

正常流量，kg/h	操作弹性	进料温度，℃
18000	60%~120%	40

1.2 原料规格（单位：wt%）

二氯二氢硅	三氯氢硅	四氯化硅	硼、磷杂质
~3.866%	~57.494%	~38.637%	~0.002%

1.4产品质量指标

二氯二氢硅的转化率：≥98%；三氯氢硅产品的质量指标（单位：wt%）：≥96%。

041102127

还有各塔的塔压也是要确定的参数

2013qustgm205

选啥方程主要考虑物质的物性就行，控制方案对其没有影响。

tdl522

压力不高的话，用NRTL，压力高的话用NRTL-RK。