041102127 发表于 2015-4-7 20:00:16

请回答一些问题

aspen模拟用的是三个填料塔 ，二氯二氢硅、三氯氢硅、四氯化硅微量的硼、磷杂质（主要是以低沸点化合物的形式存在）。第一个塔塔顶DCS、TCS，塔底STC ，第二个塔塔顶DCS塔底TCS　，第三个塔塔顶TCS，塔底B、P杂质．．．选方程是NRTL方程还是PR方程呢？？？？

正常流量，kg/h操作弹性进料温度，℃
1800060%~120%40
1.2 原料规格（单位：wt%）
二氯二氢硅三氯氢硅四氯化硅硼、磷杂质
~3.866%~57.494%~38.637%~0.002%





1.4产品质量指标二氯二氢硅的转化率：≥98%；三氯氢硅产品的质量指标（单位：wt%）：≥96%。



041102127 发表于 2015-4-7 20:00:16

还有各塔的塔压也是要确定的参数

2013qustgm205 发表于 2015-4-7 20:00:16

选啥方程主要考虑物质的物性就行，控制方案对其没有影响。

tdl522 发表于 2015-4-7 20:00:16

压力不高的话，用NRTL，压力高的话用NRTL-RK。
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