化学气相沉积（CVD）工艺特气供气系统

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化学气相沉积（CVD）工艺特气供气系统
化学气相沉积（CVD）工艺是指半导体和太阳能工业中常用的一类制造工艺。该过程涉及将固体材料从气相沉积到基板或晶片上。
CVD工艺的关键组件之一需要气体输送系统，该系统将前体供应到反应室。当气体与加热的基板接触时，气体分解（反应）并在基板上形成固体层。
NFO技术
这种CVD工艺允许制造商在“掺杂”步骤中添加额外的材料，包括锌。在衬底上施加一层掺杂会影响其导电能力。制造NFO薄膜的第一步需要制造由有机溶剂与铁和镍化合物结合而成的NFO溶液。
其他步骤包括：
·    在硅片上涂铂金。
·    向晶圆引入NFO解决方案。
·    旋转晶圆将溶液均匀地分布在整个表面上。
·    加热晶片以溶解溶剂。
·    在750摄氏度的温度下重新加热晶圆，使NFO固化。
研究人员表示，CVD程序也使材料具有灵活性，适用于各种应用。研究人员通过在掺杂过程中添加锌来增强NFO在较高温度下保持其磁性的能力。

CVD特气供气系统

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liuqingge2010

谢谢楼主分享

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wunhua2004

化学气相沉积（CVD）工艺特气供气系统
化学气相沉积（CVD）工艺是指半导体和太阳能工业中常用的一类制造工艺。该过程涉及将固体材料从气相沉积到基板或晶片上。
CVD工艺的关键组件之一需要气体输送系统，该系统将前体供应到反应室。当气体与加热的基板接触时，气体分解（反应）并在基板上形成固体层。
NFO技术
这种CVD工艺允许制造商在“掺杂”步骤中添加额外的材料，包括锌。在衬底上施加一层掺杂会影响其导电能力。制造NFO薄膜的第一步需要制造由有机溶剂与铁和镍化合物结合而成的NFO溶液。
- 本文出自马后炮化工-让天下没有难学的化工技术，原文地址：https://meng.horse/thread-211568-1-1.html