浅谈半导体超纯水设备

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半导体超纯水设备是由多介质过滤器、活性炭过滤器、钠离子软化器、精密过滤器等组成的预处理系统。整个系统由预处理系统、RO反渗透装置、离子交换混床系统等。超纯水设备采用全自动控制系统，实现了真正无人值守，同时在设计制作的工艺上采用和推荐客户要求相统一的方法，与其他设备相比，其性价比较高。目前，国内半导体超纯水设备做的比较好的就属“纯水一号”了。下面，就跟着纯水一号专家来了解一下半导体超纯水设备的常见知识。

半导体超纯水设备对水质的要求

新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

　　电子半导体超纯水设备的用途

　　电子工业超纯水设备主要用于微电子产品生产用高纯水，半导体、显象管制造业用超纯水，集成电路板生产清洗用超纯水，蓄电池、锂电池、太阳能电池、干电池等生产用纯水，高纯水，超纯水的制备。

　　电子半导体超纯水设备的工艺流程

　　纯水一号公司的电子半导体超纯水设备采用反渗透装置作为设备的核心技术，其工作原理为：

原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→反渗透设备→EDI系统→超纯水箱→超纯水泵→抛光混床→终端过滤器→用水点

半导体超纯水设备维护

半导体超纯水设备由于生产的波动，不可避免的经常要短期或长期停运，所以必须采取保护措施，防止反渗透膜性能下降。

1、停运15d以下的系统是短期保存，可采用经常性的冲洗方法（每1--3d低压冲洗防水）

2、停运15d以上的系统是长期保存，反渗透装置进行保护时必须用保护液（亚硫酸氢钠）充入净水设备。

3、在设备运行过程中，反渗透装置可能会出现脱盐率下降，出水率下降，压差升高，甚至对膜造成不可恢复的损伤，这是因为反渗透膜有可能被无机物垢、胶体、微生物、金属氧化物等污染，因此，为了恢复良好的透水和除盐性能，需要对膜进行化学清洗，一般为3--12月清洗一次。

    以上为纯水一号专业人士提供，希望能帮到大家。

tianshanxue

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bigfish

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dyzcz1

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xscarbon

活性炭过滤环节一般对活性炭的吸附值和材质有较高要求，目前国内很多净水的活性炭都无法达到合格标准，纯粹追求价格的低廉和应付环保要求